日本在光刻機產業有著悠久的歷史和舉足輕重的地位，但目前的角色卻略有不同。
日本曾是光刻機市場的主要參與者，尼康和佳能等公司在該行業佔據主導地位。例如，尼康在2004年之前就佔據了全球50%以上的市佔率。然而，這些公司主要專注於成熟的製程節點，最終由於戰略失誤而被ASML超越，例如錯過了193奈米浸沒式微影技術的採用。
就深紫外線（DUV）光刻能力而言，日本在深紫外線 (DUV) 光刻機方面擁有專業知識，這種光刻機用於不太先進的半導體製造。當下，尼康和佳能仍在生產深紫外線（DUV）光刻機，但與阿斯麥相比，其市佔率已微不足道。
就極紫外線（EUV）光刻能力而言，日本目前尚未生產完整的極紫外線（EUV）微影機，總部位於荷蘭的阿斯麥是EUV系統的唯一生產商。然而，日本在 EUV 供應鏈中扮演著至關重要的角色：HOYA 和 JSR 等日本公司提供光掩模和光阻等關鍵材料。來自日本的精密光學元件和製造設備是 ASML EUV 系統不可或缺的一部分。
日本正在積極投資發展自身的 EUV 光刻能力，欲作為國家半導體戰略的一部分，日本政府已撥款數十億美元支持 EUV 相關研發。如日本Rapidus 是一家半導體製造技術研發公司，旨在建立先進的半導體製造設施，未來可能將 EUV 技術融入其中。
雖然日本目前尚未生產完整的 EUV 光刻機，但憑藉其在材料、元件和精密製造方面的貢獻，它仍然是全球光刻生態系統中的重要參與者。
